数亿融资加持顶尖团队 普雨科技开拓国产高端光刻设备新突围路
一直以来，高端光刻设备是阻碍我国芯片产业升级的难题。在全球半导体行业聚焦纳米压印这一突破性技术路线时，苏州工业园区的一家新兴企业正快速发展。
成立刚一年多的普雨科技（苏州）有限公司，依托二十多年的技术积累与成果转化，已接连完成三轮融资，累计融资金额达数亿元。公司股东包含蓝驰创投、元禾原点、启赋资本等知名财务投资机构，招商局创投等产业投资机构，以及元禾控股、上海科创基金等政府投资平台。在“财务+产业+政府”多方协同助力下，公司迅速成长为国内纳米压印光刻设备领域的领军企业，为国产半导体设备突围开辟了全新赛道。
行业迎来产业化转折，国际巨头推动技术商业化进程
半导体产业的竞争，关键在于高端装备的竞争。光刻作为芯片制造中技术最复杂、成本最高的核心环节，成本占总生产成本的30%以上，生产周期占比接近50%。长期以来，我国在先进制程光刻设备领域受海外技术垄断限制，而纳米压印技术的兴起为打破这一局面提供了历史性机遇。
和传统EUV光刻机相比，纳米压印设备采购成本仅为前者的几分之一，还能降低40%的制造成本，同时具有超高分辨率和低能耗的明显优势，被业界看作有望替代EUV的下一代光刻核心技术方向。目前，国际半导体设备巨头已推动纳米压印技术实现商业化突破，相关设备已引入海力士、铠侠等全球存储巨头，这标志着该技术正式进入产业化转折期。
行业顶尖团队引领，填补国内技术空白
普雨科技创始团队在纳米压印与半导体设备领域深耕多年，聚集了一批在光刻技术、精密制造、半导体工艺及产业化落地等方面的资深专家，拥有顶尖的技术研发能力、成熟的工程化经验和市场化开拓能力。
公司已建立覆盖软硬件开发、精密工艺、机械设计、供应链管理及客户端交付的全链条精英团队。核心成员均来自国内外知名半导体设备企业，在高精度套刻、光刻精度、良率管控等关键技术领域有长期技术积累和量产落地经验，形成了从前沿技术研发到产业化落地的完整能力闭环。
作为产业化落地的标志性产品，普雨科技首台套纳米压印光刻设备已进入总装调试的关键阶段。该设备将率先应用于AI与光互联这一战略领域，搭载多项自主研发核心技术模块，在对准精度、压印速率等关键性能指标上都达到领先水平，可广泛用于下游多个场景。
公司表示，将抓住纳米压印技术产业化的关键时机，以“技术攻坚+产业落地”双轮驱动，加快核心设备迭代和规模化交付，为我国高端装备产业突破技术瓶颈、实现高质量发展注入自主创新动力，开辟差异化竞争新赛道。
本文仅代表作者观点，版权归原创者所有，如需转载请在文中注明来源及作者名字。
免责声明：本文系转载编辑文章，仅作分享之用。如分享内容、图片侵犯到您的版权或非授权发布，请及时与我们联系进行审核处理或删除，您可以发送材料至邮箱：service@tojoy.com