台积电2nm工艺传放弃国产设备材料，或为示好美国

快科技8月25日消息，台积电今年将量产2nm工艺，这是台积电首次采用GAA结构晶体管技术，将进一步巩固其在先进工艺上的垄断地位。

从这一代工艺起，台积电有个重要变动，即淘汰国内的半导体设备及材料，这意味着2nm及未来的A16、A14工艺将仅使用美国、日本、欧洲、韩国等地区的设备。

具体受影响的国产设备不算多，国内目前能满足7nm以下先进工艺的设备，要么还在研发中，要么尚无厂商有实力切入。台积电用到的国产设备主要是中微半导体的刻蚀机，还有一家被中资收购的美国厂商Mattson Technology，主要生产刻蚀、去胶、热处理等设备。

除半导体设备外，台积电还在审查半导体材料的产地。不过在2nm工艺级别，几乎没有国产厂商能为台积电供货，大硅片、EUV光刻胶、特种气体等主要来自国外厂商。

台积电此举主要是为迎合美国政策。2nm工艺会先在新竹工厂生产，随后是高雄工厂，但2028年将转移到美国生产，而美国此前公布的政策是拿美国补贴的厂商不能购买、使用外国实体的不合格设备。

针对这一传闻，台积电公司今日做出回应，依旧是那句话——不评论市场传闻。

台积电表示，公司的全球采购策略是通过完善的风险管理系统及与供应商紧密的伙伴关系，持续开发多源供应方案、建立多元的全球供应商。

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